원인

삼성전자가 ASML과 12인치 포토마스크 공동 연구 및 2028년 차세대 노광 장비 도입을 추진함.

영향이 전달되는 경로

12인치 포토마스크 표준화 및 High NA EUV 도입 → 초미세 공정 회로 형성 능력 향상 및 제조 효율 극대화 → 메모리 및 파운드리 기술 경쟁력 강화

확인된 변화

• 삼성전자, ASML 주도 '대형 마스크 컨소시엄' 합류 및 12인치 포토마스크 공동 연구 착수

이어진 일

• 2026-09-09 · 삼성전자가 ASML과 협력하여 AI 반도체 수요에 대응하기 위한 차세대 노광 기술 및 포토마스크 표준화에 나섬
• 2026-09-09 · 삼성전자가 ASML 주도의 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여하여 기존 6인치 포토 마스크를 12인치로 전환하는 기술을 공동 개발하기로 함