원인

정부의 반도체 메가프로젝트에 따른 용인·서남권 팹 증설과 공정 미세화(EUV 도입, 3D 낸드 고단화)로 인해 초순수 및 폐수 재이용 설비 수요가 급증함.

영향이 전달되는 경로

반도체 팹 증설 및 미세화 → 웨이퍼 세정 및 장비 냉각용 초순수 소모량 급증 → 용수 확보의 중요성 증대 → 팹 내 무방류(ZLD) 수처리 및 재이용 설비 도입 확대 → 수처리 인프라 기업의 수주 기회 증가

확인된 변화

• 삼성전자와 SK하이닉스의 대규모 용수 사용량 확인 및 팹 증설에 따른 추가 수요 발생 전망

이어진 일

• 2026-09-01 · 테크로스 워터앤에너지가 SK하이닉스 용인 반도체 클러스터 수처리 공사 및 반도체·디스플레이 분야 수처리 시설 구축 사업을 수주함.

성립 조건

• 반도체 팹 증설 및 인허가 과정이 계획대로 진행될 경우

반대 신호

• 용수 공급 인프라 구축 지연 가능성
• 지자체 협의 및 인허가 과정의 불확실성